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全程水處理器電化學氧化法主要用于去除水中的氰

作者: Bjadmin 浏覽: 發布時間: 2011-11-25
[技術文章]

电化学氧化法在处理有机硫化合物废水中的应用。全程水處理器電化學氧化法主要用于去除水中的氰、酚以及COD等,亦有利于阳极产物Ag+离子进行消毒处理的。还可用以去除废水中的含硫化物(S2-,有机硫化物)、有机磷化合物和有机农药(如马拉硫磷)等。某含有机硫化合物废水,用电解法氧化处理,电流密度2A/dmz,电解30min,COD从3248mg/L降到lOOOmg/L以下,有人试验电解海水,产生OCl-,然后与废水混合,进行氧化处理,认为在特定条件下十分经济。
據國外試驗,在廢水中投加一定量食鹽,可對廢水進行電解氧化脫色,若采用對C廣離子有專屬吸附作用的多孔炭電極,可提高脫色效果。
化學氧化法處理含氰廢水。電解含氰廢水時,CN-可在陽極直接被氧化,CN-的陽極氧化需在堿性條件下進行,這是因爲酸性條件下形成的HCN在陽極上放電十分困難,而堿性條件下形成的CN-易于在陽極放電;同時陽極反應也需要有OH-離子參加。當廢水中含氰濃度較低時,副反應的比例增大,使電流效率降低;同時溶液中電解質少,電阻增大,使電壓效率亦低。全程水處理器通常要往廢水中加一些食鹽。食鹽的加入,不僅使溶液導電性增加,而且C廠離子在陽極放電,産生氯氧化劑,強化了陽極的氧化作用。維持適當堿性(pH=8-10),有助于防止溶液中CNC1的積聚。
爲了有效地氧化破壞CN-,需提高陽極産物0L1明含量。OCl-産量的主要因素是NaCl的濃度和電流密度。提高氯化鈉濃度,固然有利于CN-的氧化去除,但食鹽投量太大,電能效率反而下降。通常應根據不同的廢水含氰濃度、電流密度、極板中心距,通過試驗確定最佳投鹽量。據國內試驗資料,處理含氰25mg/L-lOOmg/L的廢水,投加食鹽量爲2g/L-3g/L。電流密度提高,雖可增加OCl-的産量,但同時加劇了石墨陽極的損耗,並使超電勢增加,電耗增大。通常,廢水濃度高,極板中心距小,可采用較大的電流密度;反之,可采用較小的電流密度。電流密度一般都低于9A/dm2。同時,要在不同的操作條件(食鹽濃度、電流密度)下,控制適當的OCl-平衡濃度及一定的槽溫。
全程水處理器電解氧化法除氰時,可采用翻騰式和回流式電解槽。陽極可采用石墨,陰極可用普通鋼板。爲防止有害氣體逸人大氣,電解槽應采用全封閉式。電化學氧化法處理含氰廢水,可使遊離CN-濃度降至O.Img/L以下,並且不必設置沈澱和汙泥處理設施。缺點是處理費用高于氯氧化法。
 

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